Przejdź do głównej treści
  • • DARMOWA DOSTAWA OD 200ZŁ! • ZŁÓŻ ZAMÓWENIE DO 16:30 A PRZESYŁKĘ DOSTANIESZ NASTĘPNEGO DNIA! •
Otwórz wyszukiwarkę
Szukaj
Zamknij wyszukiwarkę Wyczyść Szukaj
Produkty w koszyku: 0. Zobacz szczegóły
Producent: K&F Concept (przejdź do produktów)

Filtr UV Nano-X MRC K&F CONCEPT do FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI

Przejdź do sekcji Opinie
Cena 109,99 zł
szt.
Czas wysyłki: 24 godziny
Dostawa od 11,00 zł - ORLEN Paczka

Zamówienia złożone do 15:00 wysyłamy w ten sam dzień!

Dostępność:
na wyczerpaniu

Opis

Filtr Ultrafioletowy

UV NANO-X MRC

Dedykowany do aparatów FujiFilm:

  • X100VI
  • X100V
  • X100F
  • X100T
  • X100S
  • X100

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI

  • Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
  • Kolory pozostają naturalne i wyraźne
  • Filtr redukuje mgłę, która może występować na morzu lub w górach
  • Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
  • 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
  • Filtr jest wodoodporny i odporny na zarysowania
  • Pierścień wykonany z  aluminium, wyposażony we wzór trapezowy, który ułatwia montaż i demontaż filtra
  • Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm
  • Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną również w naszej ofercie)
  • W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra

Produkt firmy: K&F CONCEPT - lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych

MODEL: KF01.2703 / UV MRC

Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

  • Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.

    Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.

Cechy filtra K&F UV NANO-X MRC:

  • Wyprodukowany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
  • Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć
  • Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
  • Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM
  • Doskonały stosunek jakości do ceny
  • Filtr pasuje m.in do następujących aparatów FujiFilm:
  • X100VI
  • X100V
  • X100F
  • X100T
  • X100S
  • X100
  • Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
  • Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
  • Filtr wykazuje właściwości wodoodporne
  • Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm
  • Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną osobno w naszej ofercie)

W zestawie:

  • 1x filtr UV
  • 1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra

Opinie

Liczba ocen: 0
Oceń i opisz